एमईएमएस वेक्टर हाइड्रोफोन के लिए क्रॉस-बीम संवेदनशील संरचना पोस्ट-सीएमओएस रिलीज विधि

मेम्स वेक्टर हाइड्रोफोन के लिए क्रॉस-बीम संवेदनशील संरचना के बाद सीएमओएस रिलीज विधि

तकनीकी फील्ड

1. वर्तमान आविष्कार अर्धचालकों के क्षेत्र से संबंधित है, विशेष रूप से सिलिकॉन नाइट्राइड के साइडवॉल संरक्षण और सिलिकॉन की अनिसोट्रोपिक जंग रिलीज संवेदनशील संरचनाओं के लिए, विशेष रूप से एक मेम्स वेक्टर हाइड्रोफोन के लिए उन्मुख क्रॉस बीम संवेदनशील संरचना के बाद एक सीएमओएस रिलीज विधि के लिए।

पृष्ठभूमि तकनीक:

2. मेम्स वेक्टर हाइड्रोफोन पानी के भीतर कणों के कंपन वेग जैसे वेक्टर जानकारी का पता लगा सकता है, और पानी के नीचे का पता लगाने वाले प्लेटफार्मों जैसे सोनार सिस्टम, पानी के नीचे मानव रहित पनडुब्बी, और हवा से गिराए गए सोनार बॉय पर लागू किया जा सकता है, और इसके प्रदर्शन पर व्यापक ध्यान दिया गया है . सीएमओएस द्वारा एकीकृत मेम्स वेक्टर हाइड्रोफोन वेक्टर हाइड्रोफोन के प्रदर्शन में काफी सुधार कर सकता है और इसमें विकास की अच्छी संभावना है।

3. सीएमओएस एकीकरण योजना में पोस्ट-सीएमओएस एकीकरण वर्तमान में एक गर्म शोध विषय है। इस योजना में, सीएमओ के साथ संगत होने के आधार पर संरचना रिलीज को पूरा करने के लिए मेम्स प्रक्रिया का उपयोग कैसे करें एक बड़ी चुनौती है। पारंपरिक मेम प्रक्रिया में, फोटोलिथोग्राफी का उपयोग मुखौटा पैटर्न को सिलिकॉन वेफर में स्थानांतरित करने के लिए किया जाता है, और मेम्स प्रक्रिया में फोटोलिथोग्राफी सटीकता अक्सर सेमीोस प्रक्रिया जितनी अच्छी नहीं होती है, और फोटोलिथोग्राफी चरण उत्पादन क्षमता को कम करते हैं और उत्पादन लागत में वृद्धि करते हैं। . यह भी एक समस्या है जिसका अध्ययन चिप्स के बड़े पैमाने पर उत्पादन का एहसास करने के लिए किया जाना चाहिए।

4. इस समस्या को हल करने के लिए, मेम्स वेक्टर हाइड्रोफोन की संवेदनशील संरचना के आधार पर, वर्तमान आविष्कार एक पोस्ट-सीएमओएस मेम्स रिलीज विधि तैयार करता है जिसमें लिथोग्राफी की आवश्यकता नहीं होती है और यह सीएमओ के साथ संगत है।

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